​CVD金刚石的制备方法有化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition，CVD）和高压高温合成法（High Pressure High Temperature，HPHT）两种。这两种方法在金刚石领域都有广泛应用，但在效率、工艺复杂性和成本等方面存在一定差异。化学气相沉积法是一种在

​CVD金刚石是化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition，简称CVD）制备的合成金刚石。它的硬度可以达到15000 HV（Vickers硬度），是天然金刚石的数倍。CVD金刚石在工具制造上备受青睐的原因有很多。首先，CVD金刚石具有非常高的硬度，因此在加工硬质材料时可以提供出

​CVD金刚石的外观、成分与天然金刚石几乎一样，物理、化学特性也没有太大不同，在肉眼下，两者看不出任何区别。不过CVD金刚石之所以受重视，最主要的原因就是“纯”，它与天然金刚石相比更加地干净，几乎没有任何杂质。半导体材料界的新星：CVD金刚石极高的纯度，使得CVD金刚石在应用上比天然金刚石拥有更多的可