青岛华旗科技有限公司

青岛精诚华旗微电子设备有限公司为专业的半导体工艺设备及先进材料专用设备研发、制造厂家。主要产品系列：扩散炉、氧化炉、LPCVD低压化学气相沉积、HVPE晶体生长、真空炉及半导体废气处理等。致力于为半导体集成电路分立器件、太阳能电池、半导体照明LED及磁性材料厂家提供先进的专用设备，工艺含盖化合物半导体晶体生长、外延、薄膜淀积(氮化硅、氧化硅、多晶硅等)、氧化扩散退火(含快速退火工艺)合金、真空烧结等工艺。我公司制造的半导体工艺设备覆盖一、二、三、四代半导体材料-硅、砷化镓、氮化镓等等，高性能磁性材料真空设备(钐钴、钕铁硼等)，同时承担了国家部分863项目(如半导体白光照明GaN生长的HV

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主推产品

8"氧化LPCVD炉（小批量）

型号：8"氧化LPCVD炉（小批量）

产品性能：◆垂直结构，高效产能，50片/批◆稳定优良的成膜均匀性，重复性好◆微环境低氧控制先进技术◆硅片颗粒度控制稳定，国际标准

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全自动氧化扩散LPCVD炉

型号：全自动氧化扩散LPCVD炉

产品性能：◆全自动：盒到盒（CassetteToCassette）◆模块化设计,SEMI标准◆满足4～8/12英吋晶圆工艺◆每台1～4/5管，石英/SiC反应管◆恒温区：800/1000/1250mm◆温度：200～1300℃/1350℃◆全自动机械手装卸，悬臂/软着陆◆高集成度，完整的工厂MES系统对接配套工艺：◆扩散炉：气态/液态/固态源磷硼扩散◆氧化炉：干氧/湿氧（DCE，HCL）◆氮、氢退火，烧结、合金、固化等◆镓、铝扩散，LPPOCl3◆LPCVD工艺：多晶硅P-Si，氮化硅Si3N4，氧化硅SiO2，磷硅玻璃PSG，硼磷硅玻璃BPSG，TEOS，LTO，HTO，SIPOS...◆P

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8"氧化LPCVD炉(生产型）

型号：8"氧化LPCVD炉(生产型）

产品性能：◆垂直结构，高效产能，150片/批◆稳定优良的成膜均匀性，重复性好◆微环境低氧控制先进技术◆硅片颗粒度控制稳定，国际标准◆全自动流程，盒对盒，21盒存储◆高集成度，完整的工厂MES系统对接◆符合SECSⅡ/HSMS/GEM等标准配套工艺：◆氧化：干氧/湿氧（DCE,HCL）◆氮、氢退火（快速热退火），烧结、合金，固化等◆LPCVD工艺：多晶硅，氮化硅，氧化硅（PSG、BPSG等），TEOS,LTO/HTO,SIPOS等。

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8"氧化LPCVD炉（小批量）

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全自动氧化扩散LPCVD炉

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